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概述
本工藝設(shè)備是一種以納米級二氧化鈦為觸媒,在紫外線光線的作用下,它能高效快速去除揮發(fā)性有機物(VOCs)、無機物、硫化氫、氨氣、苯類等各種有害氣體的環(huán)保設(shè)備。
原理
利用特制的高能臭氧UV紫外線光束照射VOCs氣體,利用二氧化鈦作為催化劑,改變廢氣中有害成分鏈結(jié)構(gòu),使其降解轉(zhuǎn)變成分子化合物CO2、H20等。